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國內首條二維半導體工程化示范工藝線點亮,上海搶占“后摩爾時代”戰略先機

2026-01-09 來源:電子工程專輯
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關鍵詞: 二維半導體 二維半導體工藝線 原集微科技

1月6日,上海浦東川沙迎來中國半導體產業歷史性時刻——國內首條二維半導體工程化示范工藝線點亮儀式在此成功舉行。這條由復旦大學孵化企業原集微科技(上海)有限公司主導建設的工藝線,標志著我國在下一代半導體技術領域實現重大突破,為破解芯片產業“卡脖子”難題開辟新路徑。

原子級厚度破解摩爾定律困境

作為上海市三大先導產業之一的集成電路產業,二維半導體被視為突破硅基技術物理極限的關鍵方向。與傳統硅基材料相比,二維半導體具有原子級厚度(僅單層或少數層原子厚度)和高載流子遷移率等獨特優勢,可有效解決硅基晶體管尺寸微縮帶來的“電子逃逸”、內壁粗糙導致效率下降等問題。復旦大學校長金力指出:“當硅基晶體管尺寸縮小至納米級時,如同水管變細導致水流受阻,而二維半導體突破了這一物理極限。”

原集微展示的二維半導體產品

原集微科技創始人包文中透露,該工藝線預計2026年6月正式通線,第三季度實現等效硅基90納米CMOS制程,用于Mb級存儲器和百萬門級邏輯電路,并計劃在2-3年內達到等效硅基5納米乃至3納米性能,4年內展示等效硅基1納米解決方案。這一進度與全球頂尖水平形成有力競爭。

復旦大學全鏈條創新顯實力

該工藝線的投運是復旦大學“基礎研究—應用研究—產業轉化”全鏈條創新能力的集中體現。作為國內二維材料研究的中堅力量,復旦大學在集成電路設計、工藝迭代與邏輯驗證等領域處于領先地位。原集微科技由復旦大學集成芯片與系統全國重點實驗室、微電子學院研究員包文中于2025年2月創辦,系國內首家聚焦超越摩爾與非硅基異質集成技術的二維半導體企業。

活動現場,原集微與上海市浦東創新投資發展(集團)有限公司、復旦科創投資基金簽署投資協議,標志資本市場對高校技術轉化成果的高度認可。浦東新區副區長張娣芳表示,上海將圍繞二維半導體材料、制造工藝等關鍵環節布局攻關任務,優化成果轉化服務,支持龍頭企業組建創新聯合體,形成從研發到規模化應用的完整產業閉環。

從“川沙速度”到全球競爭

川沙新鎮黨委書記黃偉在致辭中回顧了項目落地歷程:從2025年6月啟動建設到2026年1月正式點亮,僅用半年時間便完成工藝線建設,彰顯“川沙速度”與高校技術轉化的高效協同。目前,川沙新鎮已構建起涵蓋廠房建設、融資支持、人才集聚的創新生態,吸引賽微電子等產業鏈企業深度合作。

北京賽微電子董事長楊云春分享了與原集微的全方位合作經驗,從設備選型到現場調試提供全程支持。市科委副主任翟金國強調,上海將通過系統部署重點攻關任務、搭建協同平臺、優化全鏈條服務,推動二維半導體產業生態培育。

從技術追趕到制程同步

據公開資料,2025年4月,復旦大學聯合團隊已成功研制全球首款基于二維半導體材料的32位RISC-V架構微處理器“無極”,相關成果發表于《自然》期刊。該處理器完全不依賴先進EUV光刻機,首次實現5900個晶體管集成度,突破二維半導體電子學工程化瓶頸。

包文中表示,二維芯片雖當前規模相當于幾十年前的英特爾8080芯片,但其制造工藝與硅基高度兼容,產業化后發展速度將遠超硅基摩爾定律。周鵬研究員進一步指出,二維半導體微米級工藝已實現硅基納米級芯片的功耗表現,未來在移動端低功耗算力需求場景(如無人機、機器人)中具有廣闊前景。

根據規劃,原集微將于2027年實現等效硅基28納米工藝,2028年達5納米甚至3納米,最終在2029年或2030年與國際先進制程同步。這一路線圖顯示,中國正通過二維半導體技術實現“彎道超車”,為全球半導體產業格局注入新變量。

搶占“后摩爾時代”制高點

此次點亮儀式匯聚政府、高校、企業、資本四方力量,成為上海建設全球科技創新中心的生動縮影。隨著首條工藝線的正式運行,我國在半導體“后摩爾時代”的技術競爭中已搶占戰略先機。正如金力校長所言:“這將為上海建設全國未來芯片技術產業高地、為我國半導體產業突破貢獻更多‘復旦力量’。”

未來,原集微科技將持續深化產學研合作,加速技術迭代與產品創新,推動二維半導體技術在高頻通信、柔性電子、量子計算等關鍵領域的應用,為全球科技進步提供中國方案。