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10臺EUV光刻機,456億,外媒:臺積電頂不住了
光刻機受制于人:有技術也生產不出芯片,華為EUV掃描儀專利有用?
10臺EUV光刻機,456億,外媒:世間再無臺積電
美媒:EUV光刻機時代開始“落幕”了
韓企研發出石墨烯EUV光罩保護膜,能大幅度提高5nm芯片良率
ASML壓力山大,全球都想繞過EUV光刻機,來制造芯片
突破EUV的替代方案:納米壓印
很遺憾,三種EUV光刻機替代方案,中國都表現不突出
給中國樹立榜樣:被日本制裁后,韓國3年量產EUV光刻膠
不黑不吹,研發出EUV光刻機,我們也無法順利制造7nm芯片
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