- 華為公布一項EUV光刻新專利
- 怕被市場拋棄,ASML急著擴大產能,EUV光刻機提升210%
- 要造芯片就離不開ASML?EUV技術壁壘雖高,但已經有人做到了繞路而行
- 光刻技術不再是一家獨大!這些光刻技術未來都有可能替代EUV
- 不再需要EUV光刻機 國內首條光子芯片產線明年落地
- 俄羅斯計劃2028年造出7nm光刻機,不使用EUV技術
- ASML壓力山大:EUV光刻機,到2nm時或走到盡頭,壟斷不再
- ASML首席技術官:High-NA EUV可能成為終點!2025年出貨90臺EUV、600臺DUV!
- 挑戰ASML的EUV光刻機:美國采用電子束,俄羅斯采用X射線
- ASML CTO:EUV光刻技術,或在2025年走到盡頭,意味芯片工藝停止?