英特爾正努力在制程技術和全球先進產能方面追趕臺積電，但在美國市場，這家芯片巨頭仍然無人能敵。據報道，英特爾的Fab 52工廠比臺積電目前的Fab 21一期和即將投產的Fab 21二期工廠更為先進，其產能相當于這兩個工廠的總和。

英特爾Fab 52工廠旨在生產采用英特爾18A（1.8nm級）及更先進工藝技術的芯片，這些工藝技術使用環柵（GAA）RibbonFET晶體管以及PowerVia背面供電網絡。該工廠的產能為每周1萬片晶圓，滿負荷運轉時每月約4萬片晶圓*（WSPM），按如今標準來看，這確實是一個非常龐大的晶圓廠。

據@IntelProMUltra觀察，目前，Fab 52配備了四臺ASML Twinscan NXE低數值孔徑EUV光刻系統，其中包括至少一臺NXE:3800E ——ASML最先進的低數值孔徑EUV光刻機，它借鑒了下一代高數值孔徑EUV光刻機的晶圓處理裝置、更快的晶圓平臺和光源，因此在30 mJ/cm2 的劑量下，每小時可處理多達220片晶圓。該工廠還擁有三臺NXE:3600D系統，在30 mJ/cm2的劑量下，每小時可處理160片晶圓。

此外，英特爾在亞利桑那奧科蒂洛的“硅沙漠”園區預留了至少15臺EUV光刻機的安裝空間，未來可能引入更高數值孔徑（High-NA）機型，進一步鞏固技術壁壘。

與臺積電Fab 21一期工程（采用臺積電N4和N5工藝生產芯片）相比，英特爾Fab 52能夠采用更先進的制程節點（低至1.8納米及以下）生產芯片，并且每月晶圓處理量是其兩倍。但盡管技術領先，Fab 52的量產進度仍受制于18A制程的良率爬坡。目前該工廠正小批量試產搭載18A技術的“Panther Lake”處理器，但英特爾預計需至2027年初才能使良率達到行業頂尖水平。在此之前，Fab 52的CPU產能將受限，部分產線可能處于閑置狀態。反觀臺積電，其美國工廠采用成熟制程快速量產策略，可迅速實現接近滿載的利用率。（校對/趙月）