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三星向外界公布 GAA MBC 技術(shù)最新進展

2023-06-26 來源:集微網(wǎng)
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關(guān)鍵詞: 三星 半導(dǎo)體

三星 Foundry 在 5 月 9 日的以色列半導(dǎo)體展會 ChipEx2023 上公布了旗下 3nm GAA MBCFET 技術(shù)的最新進展以及對 SRAM 設(shè)計的影響。



三星表示,相較 FinFET,MBCFET 提供了更好的設(shè)計靈活性:在傳統(tǒng)的 FinFET 結(jié)構(gòu)中,柵極所包裹的鰭片高度是無法調(diào)整的;而 MBCFET 則將鰭片橫向堆疊在一起,所以納米片的高度可以自行調(diào)整,能提供相對 FinFET 更多的通道寬度選擇。


MBCFET 的這一特性為 SRAM 單元設(shè)計提供了更大的靈活性,可以在 PMOS 和 NMOS 之間形成最佳平衡。