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英特爾:ASML首批兩臺(tái)High-NAEUV設(shè)備已投產(chǎn)

2025-02-27 來(lái)源:國(guó)際電子商情
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關(guān)鍵詞: 英特爾 ASML 光刻機(jī) 晶圓制造 18A制造技術(shù)

據(jù)路透社報(bào)道,半導(dǎo)體大廠英特爾近日表示,半導(dǎo)體設(shè)備大廠阿斯麥(ASML)的首批兩臺(tái)尖端高數(shù)值孔徑(High NA)光刻機(jī)已在其工廠正式投入生產(chǎn),且早期數(shù)據(jù)顯示,這些設(shè)備的性能比之前的機(jī)型更可靠。

報(bào)道稱(chēng),英特爾資深首席工程師Steve Carson在加利福尼亞州圣何塞舉行的一次會(huì)議上指出,英特爾已經(jīng)利用ASML高數(shù)值孔徑光刻機(jī)在一個(gè)季度內(nèi)生產(chǎn)了3萬(wàn)片晶圓,這些晶圓是足以生產(chǎn)數(shù)千個(gè)計(jì)算芯片的大型硅片。

2024年,英特爾成為全球第一家接收這些先進(jìn)設(shè)備的芯片制造商,與之前的ASML設(shè)備相比,這些機(jī)器可望制造出更小、更快的計(jì)算芯片。Carson表示,在初步測(cè)試中,ASML的新型高數(shù)值孔徑機(jī)器的可靠性大約是上一代機(jī)器的兩倍。“我們以穩(wěn)定的速度生產(chǎn)晶圓,這對(duì)平臺(tái)來(lái)說(shuō)是一個(gè)巨大的好處,”卡森說(shuō)。

ASML新設(shè)備可以使用光束在芯片上印制電路圖案,同時(shí)能以更少的曝光次數(shù)完成與早期設(shè)備相同工作量,從而省時(shí)間和成本。Carson指出,英特爾工廠早期結(jié)果顯示,High NA EUV機(jī)器只需一次曝光和“個(gè)位數(shù)”處理步驟,即可完成早期機(jī)器需三次曝光和約40個(gè)步驟的工作。

英特爾還表示,正在使用其18A制造技術(shù)來(lái)測(cè)試High NA設(shè)備,該技術(shù)計(jì)劃于今年晚些時(shí)候與新一代PC芯片一起進(jìn)行量產(chǎn);此外,英特爾也計(jì)劃利用其下一代制造技術(shù)14A全面投入高數(shù)值孔徑機(jī)器的生產(chǎn),但尚未透露該技術(shù)的量產(chǎn)日期。