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機構(gòu):臺積電、英特爾、三星電子2nm代工節(jié)點良率分別約為65%、55%、40%

2025-07-15 來源:愛集微 原創(chuàng)文章
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關鍵詞: 臺積電 英特爾 三星電子 2nm代工 良率

近日,分析機構(gòu)KeyBanc Capital Markets分析師John Vinh在一份報告中的分析顯示,臺積電、英特爾、三星電子的2nm代工節(jié)點良率分別約為65%、55%、40%。

John Vinh表示,Intel 18A的良率已相較上一季度的50%提升5%,有助于英特爾實現(xiàn)在今年內(nèi)推出Panther Lake處理器的目標。英特爾代工有望以65%至75%的良率進入量產(chǎn),領先于三星。屆時,臺積電的良率約為75%。

此外,John Vinh透露,英特爾將推出面向客戶的18A-P,預計于2026年下半年進入量產(chǎn)。如果18A-P的良率表現(xiàn)能夠維持水平,英特爾在2026年的業(yè)績可能會大幅超出市場預期。

雖然有消息稱,英特爾可能跳過18A-P代工服務直接轉(zhuǎn)向14A,但John Vinh認為這種情況不太可能發(fā)生,因為18A-P似乎與臺積電的N2工藝具有相當?shù)母偁幜Α6?4A預計要到2027年末或2028年初才能投入量產(chǎn)。

相比之下,目前三星的SF2工藝良率仍然只有40%,而臺積電的N2工藝則高達65%。