據中國政府采購網公示，上海微電子裝備（集團）股份有限公司中標zycgr22011903采購步進掃描式光刻機項目，設備數量為一臺，成交金額10999.985萬元。

公開資料顯示，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務，是我國極少數具有光刻機整機集成研發能力的廠商，公司設備廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。

步進掃描光刻機（Scanner）是現代投影式光刻的主流形態，通過狹縫動態掃描與步進拼接實現大面積高分辨率圖形轉移。其核心是在曝光視場內以高速同步掃描完成一次成像，再移動到下一視場重復過程，從而在大曝光視場與高分辨率之間取得平衡。典型參數包括：單次掃描狹縫約26 mm × 8 mm，最大曝光視場可達26 mm × 33 mm；掩模與晶圓反向同步掃描，掩模掃描速度可至約2400 mm/s，對應晶圓速度約600 mm/s，以提升產能。該方式已成為DUV與EUV前道制造的主力設備形態（校對/李梅）