新的出口管制規定將迫使ASML在出口一些先進的深紫外光刻（DUV）系統時申請出口許可證。荷蘭政府在一份電子郵件聲明中表示，這些措施將于9月1日生效，并于周五在荷蘭官方公報上公布。

據悉，根據這項安排，某些先進的制造設備今后必須獲得出口許可證。它涉及一些非常具體的技術，用于開發和生產先進的半導體。

對于荷蘭政府的最新規定，ASML發布聲明稱，今天，荷蘭政府公布了關于半導體設備出口管制的新規定。正如3月初宣布的那樣，新的出口管制重點是先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積和浸入式光刻系統。由于這些出口管制規定，ASML將需要向荷蘭政府申請其最先進的浸入式DUV光刻系統（TWINSCAN NXT:2000i及后續浸入式系統）的所有貨物的出口許可證。荷蘭政府將決定是否批準或拒絕所需的出口許可證，并就任何適用的條件向該公司提供進一步的細節。

ASML表示，公司將繼續遵守適用的出口法規，包括荷蘭、歐盟和美國的法規。荷蘭新的出口管制條例將于2023年9月1日生效。ASML可以在該日期之前開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將根據具體情況批準或拒絕這些申請。

另外，又據較早前據路透社報道，美國和荷蘭將在今年夏天通過進一步限制芯片制造設備的銷售來對中國芯片制造商進行限制，6家中企或受直接影響。

報道稱，美國預計將更進一步，限制更多荷蘭設備出口到特定的中國工廠，ASML較舊的DUV型號，如TWINSCAN NXT:1980Di也可能被美國禁止。知情人士稱，新規將要求向大約六家中國工廠出口相關設備需要許可證，甚至部分美國零部件也被禁止出口這些企業，該規定可能在7月底公布。