6月18日消息，據(jù)報(bào)道，臺(tái)積電今年四月更新了其最新的制程工藝路線圖，其 4nm 工藝將會(huì)在2021年底進(jìn)入“風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)”階段，并于2022年量產(chǎn)，而3nm芯片依然是定在 2022 年下半年投產(chǎn)，且2nm工藝正在開發(fā)當(dāng)中。

知名供應(yīng)鏈媒體 DigiTimes 援引消息人士消息，臺(tái)積電先進(jìn)工藝全面提速，在持續(xù)使用大量 EUV 設(shè)備提高生產(chǎn)力與效能后，已全面鞏固在EUV的領(lǐng)先地位，受此影響，供應(yīng)鏈企業(yè)新思、應(yīng)材供應(yīng)鏈雨露均沾。

此外，臺(tái)積電將在2021年第三季度將 N4（即5nm的加強(qiáng)版，或稱4nm）轉(zhuǎn)移到風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)階段，而其N3技術(shù)開發(fā)正按計(jì)劃進(jìn)行，計(jì)劃于2022年下半年量產(chǎn)。