據日經新聞報道，日本將與美國方面合作，啟動該國本土2納米先進制程研發、制造設施建設。

日經報道稱，可能的合作方式將是美日雙方企業合資成立新公司，或由日本企業獨自承擔基礎設施建設，經產省將予以補貼。

根據雙方意向，聯合研發最早將在今年夏天啟動，2025-2027年間建成研發與產業化基地。

目前，IBM與英特爾均在開展2納米工藝研發，此前日本經產大臣曾到訪IBM先進工藝研發設施。

日經分析稱，日本在半導體設備材料領域擁有強大實力，與美國芯片廠商合作可望優勢互補，早日突破先進制程技術。