眾所周知，在沒有進(jìn)入浸潤(rùn)式光刻機(jī)技術(shù)之前，當(dāng)時(shí)光刻機(jī)技術(shù)是采用193nm波長(zhǎng)的光源，生產(chǎn)普通的ArF光刻機(jī)，最多支持到65nm工藝的芯片。

當(dāng)時(shí)尼康、佳能才是光刻機(jī)老大，ASML只是一家小企業(yè)，完全不具備競(jìng)爭(zhēng)力。

從193nm波長(zhǎng)光源之后，業(yè)界對(duì)下一步采用什么光源操碎了心，佳能、尼康認(rèn)為要使用154nm，這樣支持的芯片就可以進(jìn)入到28nm及以下，跨過65nm這個(gè)坎。

但這時(shí)候，臺(tái)積電的林本堅(jiān)認(rèn)為，不一定非得采用154nm波長(zhǎng)的光源，繼續(xù)使用193nm光源，但在晶圓前加一層水，光線通過水后折射，就等效于134nm了，這樣比154nm更短，理論分辨率更高，制造的芯片工藝也越先進(jìn)。

但佳能、尼康在154nm波長(zhǎng)光源上已經(jīng)投入太多，不相信林本堅(jiān)提出的方案，覺得還是繼續(xù)研究154nm光源比較好，免得前期的研究浪費(fèi)了。

只有ASML覺得自己反正是小廠，已經(jīng)在佳能、尼康的光刻機(jī)面前快要活不下去了，不如配合臺(tái)積電折騰一把，萬一成功了呢？

誰知道這一折騰，真讓ASML成功了，推出了ArFi光刻機(jī)，介質(zhì)是水，不再是空氣，也叫做浸潤(rùn)式光刻機(jī)，之所以叫浸潤(rùn)式，就是因?yàn)槠涫褂玫氖撬菨駶?rùn)的。

而尼康、佳能選借了路線，154nm光源的光刻機(jī)，一直研發(fā)不出來，最后不得不放棄，轉(zhuǎn)向浸潤(rùn)式光刻機(jī)。

但佳能一直沒研發(fā)出來，尼康倒是研發(fā)出來了，不過其效率、工藝均達(dá)不到ASML的水平，所以慢慢也被邊緣化了，ASML份額越來越高，最后ASML獨(dú)占90%的市場(chǎng)，尼康+佳能合計(jì)僅10%左右。

但近日，尼康終于表示，自己的浸潤(rùn)式光刻機(jī)又上新了，采用了增強(qiáng)型的浸潤(rùn)式系統(tǒng)，可以具有更好的精度，導(dǎo)致生產(chǎn)速度增加了，相比于上一代效率提高了10-15%，是尼康有史以來效率最高的光刻機(jī)。

同時(shí)因?yàn)榫忍岣撸孕碌慕?rùn)式光刻機(jī)，可以支持到5nm芯片，也就是說不需要EUV光刻機(jī)，也能夠進(jìn)入7nm以下了。

不過，按照日本的禁令，40nm以下的光刻機(jī)，均不能賣給中國(guó)大陸，所以尼康的浸潤(rùn)式光刻機(jī)雖好，依然無法解決我們的光刻機(jī)困擾，我們還得靠自研。

另外佳能如今也出貨納米壓印光刻機(jī)，最高也能夠支持5nm芯片，可見日本在光刻機(jī)方面，可能又要支棱起來了， 不知道ASML會(huì)不會(huì)擔(dān)憂？