一直以來(lái)，中國(guó)大陸是買不到ASML的EUV光刻機(jī)的，我們只能買到DUV光刻機(jī)，而DUV不論先進(jìn)，還是落后，都能隨便買，ASML重申了好多次的，這個(gè)大家都清楚。

不過(guò)，按照荷蘭，美國(guó)等的禁令，從2024年1月1日開(kāi)始，ASML最新的DUV光刻機(jī)NXT：2100i、2050i已經(jīng)不能賣給中國(guó)大陸了，這兩種的許可證被吊銷了。

雖然ASML沒(méi)有說(shuō)，另外兩臺(tái)浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)NXT:2000i，NXT：1980Di還能不能賣，但估計(jì)也夠嗆，因?yàn)榘凑彰绹?guó)2023年10月份的禁令要求，NXT：1980Di實(shí)際上也是不行的，其DCO值超過(guò)了美國(guó)的限制。

至于日本，則卡的更嚴(yán)重，40nm的設(shè)備就不能賣到中國(guó)大陸來(lái)的，所以尼康的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，不管什么型號(hào)，都是無(wú)法賣到中國(guó)來(lái)的。

正因?yàn)槿绱耍院芏嗳藫?dān)心，接下來(lái)我們需要浸潤(rùn)式光刻機(jī)怎么辦？畢竟進(jìn)入65nm以下，就需要用到浸潤(rùn)式光刻機(jī)了，普通的干式DUV光刻機(jī)，其最小工藝制程，只在65nm的。

事實(shí)上，大家真的不用愁，至少3-5年內(nèi)，中國(guó)大陸是不缺浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)的。

一方面是前面已經(jīng)說(shuō)過(guò)了，ASML沒(méi)有將話說(shuō)死，只說(shuō)NXT：2100i、2050i這兩款的許可證吊銷了，還有NXT:2000i，NXT：1980Di這兩款啊，這4款浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，精度是基本相同的，只是效率不同而已。

另外一方面，2023年，中國(guó)大陸向ASML采購(gòu)了約600億元的光刻機(jī)，是2022年采購(gòu)量的3倍左右，其中以浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)為主，說(shuō)明我們?cè)缇妥龊昧藴?zhǔn)備，按照正常的使用情況來(lái)看，用個(gè)3-5年問(wèn)題不大。

畢竟以前一年才采購(gòu)100-200億，現(xiàn)在一年采購(gòu)了600億了，已經(jīng)做好未來(lái)幾年用量準(zhǔn)備。

第三，則是目前中國(guó)國(guó)產(chǎn)浸潤(rùn)式光刻機(jī)突破在即，也許不需要3-5年就突破了，那時(shí)候都不需要進(jìn)口了，還擔(dān)心什么呢？

最后，再說(shuō)一說(shuō)，浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，制造7nm芯片是不成問(wèn)題的，這個(gè)臺(tái)積電第一代7nm，就是浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)制造出來(lái)的，而華為Mate60上的芯片，也驗(yàn)證了這一點(diǎn)。

而浸潤(rùn)式光刻機(jī)之父林本堅(jiān)甚至表示，浸潤(rùn)式光刻機(jī)，從7nm推進(jìn)至5nm，也是可行的，只是需要更多次的曝光，導(dǎo)致成本上升而已，成本很重要，但沒(méi)有進(jìn)入5nm重要嘛。

所以說(shuō)，未來(lái)3-5年，我們根本就不用愁浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，甚至推進(jìn)至5nm也不用愁，我們已經(jīng)有了足夠的準(zhǔn)備，至于3-5年之后， 也許時(shí)代早就變了，就更不需要杞人憂天了。