1 月 7 日，南大光電在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，目前 ArF 光刻膠在多個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)同時(shí)認(rèn)證，尚未涉及 14nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)。

南大光電還表示，目前公司 MO 源和電子特氣產(chǎn)品訂單處于飽和狀態(tài)。ArF 光刻膠可以用于 90nm-14nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。公司目前研發(fā)的產(chǎn)品包含干式光刻膠和浸沒(méi)式光刻膠。

MO 源方面，公司除了在 MO 源 2.0 研發(fā)方面取得進(jìn)展外，在高純、低硅低氧三甲基鋁方面加大研發(fā)力度，也取得了關(guān)鍵性的進(jìn)展，為 MO 源業(yè)務(wù)從 LED 向 IC、新能源行業(yè)的升級(jí)轉(zhuǎn)型奠定基礎(chǔ)。前驅(qū)體方面，除了有客制產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化外，還要將去年從杜邦集團(tuán)買(mǎi)入的硅前驅(qū)體專(zhuān)利進(jìn)行研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，目前進(jìn)展順利。

電子特氣方面，最新升級(jí)的超高純砷烷產(chǎn)品品質(zhì)在下游客戶(hù)的測(cè)試中已超過(guò)目前國(guó)際先進(jìn)同行的技術(shù)水平，超高純磷烷產(chǎn)品進(jìn)入國(guó)際一流制程的芯片企業(yè)，標(biāo)志著公司氫類(lèi)電子特氣已躍居世界前列。混氣方面的研發(fā)進(jìn)展也比較好，正在積極應(yīng)對(duì)新能源產(chǎn)業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)升級(jí)需求。

據(jù)悉，光刻膠業(yè)務(wù)品控設(shè)備方面，南大光電購(gòu)買(mǎi)了一些檢測(cè)設(shè)備，包括光刻機(jī)，也用于檢測(cè)光刻膠，屬于光刻性能的檢測(cè)，這是質(zhì)量管控的一部分。對(duì)于其他的像純度、顆粒度檢測(cè)這塊，南大光電做的是特種電子材料，我們過(guò)去已經(jīng)有很深的技術(shù)基礎(chǔ)。人員配備方面，為了更好地與客戶(hù)溝通，我們聘請(qǐng)了具備豐富經(jīng)驗(yàn)的光刻工程師，來(lái)管理光刻膠的質(zhì)量控制部分。光刻膠原材料方面，我們南大光電的強(qiáng)項(xiàng)就是做合成，所以具備合成單體的能力。部分單體在國(guó)內(nèi)一些企業(yè)已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化了，不屬于卡脖子的材料，我們直接購(gòu)買(mǎi)國(guó)內(nèi)的；對(duì)于一些特殊的、高技術(shù)含量的關(guān)鍵單體，由我們自己設(shè)計(jì)、合成制備。所以可以說(shuō)，制備光刻膠的單體都已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了本土化。