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投資最高5000億日元!美光在日本引進EUV生產(chǎn)下一代DRAM芯片

2023-05-18 來源:國際電子商情
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關鍵詞: 美光 光刻機 半導體

彭博社引述消息人士報道,美光有望從日本政府獲得約2000億日元(約15億美元)財政補貼資金,以幫助其在日本生產(chǎn)下一代存儲芯片。


當?shù)貢r間周三,美光科技表示,在日本政府的支持下,在未來幾年內向極紫外 (EUV) 技術投資最多5000億日元(約37 億美元)。


報道稱,最新的EUV芯片制造設備被引入美光廣島工廠,用于生產(chǎn)其下一代DRAM芯片(1-gamma節(jié)點)。


該公司表示,美光將成為第一家將EUV技術引入日本進行生產(chǎn)的半導體公司,并補充說,預計從2025年起將加大1-gamma的在中國臺灣地區(qū)和日本的生產(chǎn)力度。


國際電子商情了解到,去年實施的《半導體援助法》是日本努力提升國內半導體生產(chǎn)的最新舉措,對于符合要求的芯片制造企業(yè),將有可能獲得“半額”設備費用的補助資金。


《半導體援助法》對在日本國內興建先進半導體工廠提供補貼的“特定高度情報通信技術活用系統(tǒng)開發(fā)供給導入促進法(5G法)”等相關法案自2022年3月1日實行,只要申請企業(yè)提出的生產(chǎn)計劃符合“持續(xù)生產(chǎn)10年以上”、“供需緊繃時能增產(chǎn)應對”等條件,最高將可獲得設備費用“半額”的補助金。


眾所周知,半導體行業(yè)的發(fā)展程度是國家科技實力的重要體現(xiàn),全球主要國家和地區(qū)競相發(fā)展的重要新興技術和產(chǎn)業(yè)。和其他國家一樣,日本近年來也一直在努力重振其芯片行業(yè),其全球市場份額已從1980 年代后期的約50%降至約10%。